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GISAXS 2.0 研究納米結(jié)構(gòu)表面和薄膜樣品
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GISAXS 2.0 研究納米結(jié)構(gòu)表面和薄膜樣品

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關(guān)鍵功能

通過 GISAXS 測量,您可以獲得面積較大樣品的典型納米結(jié)構(gòu)表面信息。GISAXS 幾乎不需要提前制備樣品,可在真空和受控環(huán)境條件(空氣、惰性氣體)下進(jìn)行樣品測量。安東帕 GISAXS 2.0 是一個高精度自動化平臺。您可以在 -150 °C 至 500 °C 的溫度范圍內(nèi)傾斜、旋轉(zhuǎn)和研究樣品。

自動化 GISAXS 2.0 可快速精確地進(jìn)行掠入射研究

安東帕 SAXS 系統(tǒng),SAXSpoint 5.0 和 SAXSpace 可配備高分辨率 GISAXS 2.0,以進(jìn)行 GISAXS/GIWAXS/GIXD(掠入射 SAXS/WAXS/衍射)研究。可在 X、Y、Z 方向上精確定位。利用集成式 ? 旋轉(zhuǎn)器,可沿著 ? 軸傾斜和旋轉(zhuǎn)樣品,旋轉(zhuǎn)重復(fù)性為 0.001°。

安東帕 GISAXS 2.0 是表征介孔薄膜、表面沉積的納米顆粒、氧化物表面的金屬沉淀物以及軟物質(zhì)體系(如聚合物/嵌段共聚物薄膜和附在表面的生物材料)等的最佳環(huán)境。



GISAXS 加熱模塊 2.0 可擴展測量功能

如果 GISAXS 2.0 配備了 GISAXS 加熱模塊 2.0,就可以用于高達(dá) 500 °C 的溫度環(huán)境。該模塊配有一個樣品隔離外殼,這樣您就可以在室溫環(huán)境和非室溫環(huán)境條件(如空氣或惰性氣體)以及真空下測量樣品。



低至 -150 °C 的低溫 GISAXS 實驗

GISAXS 2.0 的加熱 /Cryo 模塊支持 -150 °C 至 350 °C 溫度范圍,可輕松安裝到 GISAXS 2.0 上,并確保較高的樣品表面溫度均勻性,這樣您就可以優(yōu)化 GISAXS/GIWAXS 研究。SAXS 設(shè)備可在插入樣品臺后自動識別樣品臺。





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